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IT之家(RSS)·· 6 天前AI 评分52

余承东称国内正在研发 EUV 设备,华为以逻辑折叠和系统工程弥补先进制程限制

华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发

AI 导读

华为余承东在国际媒体圆桌会议上表示,EUV 是制造先进芯片的关键,国内正在研发,但现阶段仍依靠 DUV。他称逻辑折叠是在技术受限情况下提升能力的方法,华为也通过系统工程优化手机整体性能;文中还介绍 Mate 90 系列搭载麒麟 9030、9035、9050、9050 Pro 等韬定律芯片,并预计到 2031 年相关高端芯片晶体管密度达到 1.4 纳米制程同等水平。

来源:IT之家(RSS) · ithome.com